发明名称 |
排水的吸附装置 |
摘要 |
本发明涉及一种排水的吸附装置,其包括:反应槽(2),使排水中的磷与吸附剂吸附;排水供给装置(P1、L1、21),将含有磷的排水供给至反应槽;吸附剂投入装置(10、11、12、24),将吸附剂投入至反应槽内;处理水排出装置(P2、L2、22),将在吸附剂上吸附了磷后的处理水从反应槽排出;吸附剂排出装置(P3、L3、23),将吸附了磷的吸附剂从反应槽排出;以及吸附剂流出防止装置(P4、L4、8、9),用于在吸附剂上吸附磷的期间,防止吸附剂从反应槽内流出。 |
申请公布号 |
CN101830536B |
申请公布日期 |
2013.10.16 |
申请号 |
CN201010002993.8 |
申请日期 |
2010.01.15 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
堤正彦;茂庭忍;山本胜也;足利伸行;海老原聪美;仕入英武;纳田和彦 |
分类号 |
C02F1/28(2006.01)I |
主分类号 |
C02F1/28(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
陈建全 |
主权项 |
一种排水的吸附装置,其特征在于,该排水的吸附装置包括:反应槽,其中形成有吸附剂的流化床,至少含有磷酸离子作为处理对象物质的排水被导入到下部,以形成与排水供给或处理水排水相伴的所述反应槽内的排水的上升流,上升的所述排水与含有水滑石粒子的吸附剂接触,从而使所述处理对象物质吸附在所述吸附剂上;排水供给装置,将含有所述处理对象物质的排水供给至所述反应槽;吸附剂投入装置,将所述吸附剂投入至所述反应槽内;处理水排出装置,将在所述吸附剂上吸附了所述处理对象物质后的处理水从所述反应槽排出;吸附剂排出装置,将吸附了所述处理对象物质的吸附剂从所述反应槽排出;以及吸附剂流出防止装置,用于在所述排水中的处理对象物质与所述吸附剂吸附的期间,防止所述吸附剂从所述反应槽内流出;其中,所述吸附剂流出防止装置具有使与排水供给或处理水排水相伴的所述反应槽内的水的流动状态发生变化的反应槽内流动状态变化装置;其中,作为所述反应槽内流动状态变化装置,具有循环管线和循环泵,以形成循环流,所述循环流包含方向与在所述反应槽内上升的水流方向不同的下降流。 |
地址 |
日本东京都 |