发明名称 金属膜中高度有序的纳米孔阵列及其制作方法
摘要 本发明涉及金属膜中的高度有序的纳米孔阵列以及制作其的改进的方法,所述方法包括以下步骤:a)提供包含聚N-异丙基酰胺(聚NIPAM)的微球,所述微球选自纯的聚N-异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶微球以及带有聚N-异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶链的聚合物微珠或无机物微珠,b)将所述微球的水分散体涂布到基材上并干燥此分散体,由此产生非紧密堆积的有序的微球阵列,c)在所述基材上产生金属膜,d)从所述基材的表面除去所述微球,由此在基材上产生有序的纳米孔阵列,和e)任选通过选择性无电镀增加所述金属膜的厚度。
申请公布号 CN102341524B 申请公布日期 2013.10.16
申请号 CN200980157872.6 申请日期 2009.03.05
申请人 马克思-普朗克科学促进协会 发明人 C·帕霍尔斯基;S·昆特
分类号 C23C14/04(2006.01)I;C23C18/06(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 过晓东
主权项 在基材上的金属膜中制作高度有序的纳米孔阵列的方法,其包括以下步骤:a)提供包含聚N‑异丙基酰胺(聚NIPAM)的微球,所述微球选自纯的聚N‑异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶微球以及带有聚N‑异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶链的聚合物微珠或无机物微珠,b)将所述微球的水分散体涂布到基材上并干燥该分散体,由此产生非紧密堆积的有序的微球阵列,c)在所述基材上产生金属膜,d)从所述基材的表面除去所述微球,由此在基材上产生有序的纳米孔阵列,和e)通过选择性无电镀增加所述金属膜的厚度。
地址 德国慕尼黑