发明名称 半导体器件
摘要 本实用新型提供一种半导体器件,包含:第一导电类型的漂移层(4);漂移层(4)上第二导电类型的体区(7);体区(7)上第一导电类型的源区(8);位于沟槽中场板(13)和/或栅电极(12),所述沟槽延伸进入漂移层(4);电介质层(17)上的互连层(22),其中互连层(22)经由电介质层(17)中的至少两个接触孔电连接到同一场板(13)和/或同一栅电极(12);用于连接源区(8)到互连层(22)的接触插塞(21)。其中,所述漂移层(4)、源区(8)和体区(7)中的至少一个包括缺陷化的半导体材料。
申请公布号 CN203242633U 申请公布日期 2013.10.16
申请号 CN201320118235.1 申请日期 2013.03.15
申请人 英飞凌科技奥地利有限公司 发明人 R.西米尼克;M.胡茨勒;O.布兰克;L.J.叶
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 曲宝壮;李浩
主权项 一种半导体器件,包含:第一导电类型的漂移层(4);漂移层(4)上第二导电类型的体区(7);体区(7)上第一导电类型的源区(8);位于沟槽中场板(13)和/或栅电极(12),所述沟槽延伸进入漂移层(4);电介质层(17)上的互连层(22),其中互连层(22)经由电介质层(17)中的至少两个接触孔电连接到同一场板(13)或同一栅电极(12);用于连接源区(8)到互连层(22)的接触插塞(21),其中,所述漂移层(4)、源区(8)和体区(7)中的至少一个包括缺陷化的半导体材料。
地址 奥地利菲拉赫