一种高透过纳米二氧化硅减反射薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种高透过纳米二氧化硅减反射薄膜及其制备与应用，所述薄膜是以纳米二氧化硅为基质，以聚氨酯、丙烯酸树脂等树脂为成膜剂，以普通光学玻璃、ITO玻璃、氧化铝玻璃等为基片，用浸渍提拉法或者旋涂法镀膜的减反射薄膜。本发明薄膜对可见光及近红外光的单面增透率可达4％，双面涂膜可使玻璃透过率达到99％。该薄膜应用在太阳能电池玻璃板上，能提高太阳电池对光的吸收，从而提高太阳能电池的效率。应用在平板显示以及光学镜头上，可以提高图像的清晰度和亮度。本发明产品安全无毒、化学性质稳定、易于长期保存；且制备工艺简单易操作，原料价廉易得，反应过程基本没有工业三废，具有绿色环保、低能耗、高效益等特点，适合工业化生产。

主权项

一种高透过纳米二氧化硅减反射薄膜无机材料的制备方法，其特征在于：具体步骤如下：a)量取一定量的无水乙醇和一定量的正硅酸乙酯（TEOS），使正硅酸乙酯的浓度为0.1～2mol/L，加热至室温～100℃，同时磁力搅拌；b)量取一定量去离子水，加入一定量的浓氨水，使氨水溶液浓度为0.1～1mol/L；c)将步骤b）的氨水溶液逐滴滴加到乙醇与正硅酸乙酯的混合液中，滴加完成后继续搅拌1～12小时；d)将固含量0.5%～20%的以上胶体溶液与固含量0.5%～20%的成膜剂按体积比为1～9：1混合；e)以玻璃为基片，使用浸渍提拉法或旋涂法制膜，膜的层数为1～5层；f)将镀膜的玻璃片置于120℃烘箱中烘30分钟，再置于马弗炉中200℃‑600℃烧4‑60分钟；在步骤c)中，同时加入适量稳定剂，所述稳定剂为氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾和氨水中的一种，加入量为纳米二氧化硅的0.1～10%；步骤d)中，加入的成膜剂为聚氨酯、聚丙烯酸、丙烯酸树脂和丁二烯树脂中的一种；步骤e)中，所述的玻璃为普通光学玻璃、ITO玻璃或氧化铝玻璃种的一种；步骤e)中，当用浸渍提拉法制膜时，提拉速度为10～100厘米/分钟；当为旋涂法制膜时，旋涂速度为1000～5000转/分钟；所制备的减反射薄膜，纳米二氧化硅粒径为5～50纳米；减反射薄膜膜厚为50～500纳米。