首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zum Formieren von Dampf- oder Gasentladungsgefässen.
摘要
申请公布号 CH220854(A) 申请公布日期 1942.04.30
申请号 CHD220854 申请日期 1941.09.01
申请人 LICENTIA PATENT-VERWALTUNGS-GESELLSCHAFT MIT BESCHRAENKTER HAFTUNG 发明人 HAFTUNG LICENTIA PATENT-VERWALTUNGS-GESELLSCHAFT MIT BESCHRAENKTER
分类号 H01J9/385 主分类号 H01J9/385
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com