发明名称 |
包含镧系金属的聚杂硅氧烷组合物 |
摘要 |
本发明公开了一种聚杂硅氧烷组合物,所述组合物包含(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)和(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元。R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基。(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示,其中a和b各自独立地为0.001至0.9,m、d、t和q中的每一个独立地为0至0.9,前提条件是m、d、t和q不都为0,并且a+b+m+d+t+q的和≈1。(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属。所述组合物具有至少0.05%的量子产率,并用包括使(A’)金属(M3)醇盐、(B’)任选的可水解金属(M4)盐、(C’)含硅材料和(D)水反应的方法形成。 |
申请公布号 |
CN103354823A |
申请公布日期 |
2013.10.16 |
申请号 |
CN201180066986.7 |
申请日期 |
2011.12.22 |
申请人 |
道康宁公司 |
发明人 |
大卫·德沙泽尔;马丁·格拉斯曼;刘立志;刘南国;E·麦克奎斯顿;S·K·米利;R·施密特 |
分类号 |
C08G77/58(2006.01)I |
主分类号 |
C08G77/58(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
武晶晶;郑霞 |
主权项 |
一种聚杂硅氧烷组合物,其包含:(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)、(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元其中R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基,其中,(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示,其中,a为0.001至0.9,b为0.001至0.9,m为0至0.9,d为0至0.9,t为0至0.9,以及q为0至0.9,其中,m、d、t和q不能都为0,并且a+b+m+d+t+q的和≈1,并且其中(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属,其中所述组合物具有至少0.05%的量子产率。 |
地址 |
美国密歇根州 |