发明名称 包含镧系金属的聚杂硅氧烷组合物
摘要 本发明公开了一种聚杂硅氧烷组合物,所述组合物包含(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)和(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元。R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基。(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示,其中a和b各自独立地为0.001至0.9,m、d、t和q中的每一个独立地为0至0.9,前提条件是m、d、t和q不都为0,并且a+b+m+d+t+q的和≈1。(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属。所述组合物具有至少0.05%的量子产率,并用包括使(A’)金属(M3)醇盐、(B’)任选的可水解金属(M4)盐、(C’)含硅材料和(D)水反应的方法形成。
申请公布号 CN103354823A 申请公布日期 2013.10.16
申请号 CN201180066986.7 申请日期 2011.12.22
申请人 道康宁公司 发明人 大卫·德沙泽尔;马丁·格拉斯曼;刘立志;刘南国;E·麦克奎斯顿;S·K·米利;R·施密特
分类号 C08G77/58(2006.01)I 主分类号 C08G77/58(2006.01)I
代理机构 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人 武晶晶;郑霞
主权项 一种聚杂硅氧烷组合物,其包含:(A)第一金属(M1)、(B)第二金属(M2)、(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元其中R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基,其中,(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示,其中,a为0.001至0.9,b为0.001至0.9,m为0至0.9,d为0至0.9,t为0至0.9,以及q为0至0.9,其中,m、d、t和q不能都为0,并且a+b+m+d+t+q的和≈1,并且其中(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属,其中所述组合物具有至少0.05%的量子产率。
地址 美国密歇根州