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经营范围
发明名称
积层装置
摘要
本发明揭示一种积层装置。该积层装置是将流体导入由隔膜隔成的上处理室,并藉由隔膜的鼓出而夹压载置于加热板的被积层体而进行积层的积层装置,其特征为:设置用来储存被导入前述上处理室的流体的储存部,并且具有用来加热被储存在前述储存部1内的流体的加热机构。
申请公布号
TWI412143
申请公布日期
2013.10.11
申请号
TW096143035
申请日期
2007.11.14
申请人
NPC股份有限公司 日本
发明人
邻良郎
分类号
H01L31/042;B29C65/24
主分类号
H01L31/042
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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