| 摘要 |
1. Способ нанесения покрытия на заготовки в установке вакуумирования с выполненным в виде мишени первым электродом, который является частью источника испарения электрической дугой,при этом через первый электрод подают дуговой разряд с током дугового разряда, посредством которого испаряется материал, и со вторым электродом, который выполнен в виде держателя заготовок и вместе с заготовками образует электрод смещения, при этом на электроды смещения подают напряжение смещения, ипри этом способ включает в себя следующие шаги:- предварительную обработку заготовок посредством бомбардировки ионами металла таким образом, что это не приводит ни к существенному съему металла, ни к существенному росту слоя, а что ионы металла инжектируются в поверхность подложки, при этом инжектированные в поверхность подложки ионы металла включают в себя ионы металла, который является компонентом подлежащего несению слоя,- прямое нанесение слоя на предварительно обработанную поверхность заготовки.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что слой или один слой многослойной системы является карбидным слоем, и/или оксидным слоем, и/или нитридным слоем.3. Способ по п.2, отличающийся тем, что слой или один слой многослойной системы имеет один или несколько металлических компонентов.4. Способ по п.3, отличающийся тем, что слой или один слой многослойной системы имеет Ti, Al, В, Si, TiAl или AlCr.5. Способ по п.4, отличающийся тем, что слой или один слой многослойной системы является нитридом титана, карбонитридом титана, оксидом алюминия, алюминий оксид хрома, нитридом бора или нитридом кремния.6. Способ по п.3, отличающийся тем, что инжектированные ионы металл |
