发明名称 |
用于化学机械抛光机的自适应逆控制系统 |
摘要 |
本发明公开一种用于化学机械抛光机的自适应逆控制系统,包括目标压力量输入装置用于向复合控制装置输入抛光头腔室的目标压力量;神经网络辨识装置用于根据复合控制装置输出的抛光头腔室的输入压力量和抛光头腔室输出压力量辨识系统的控制模型;复合控制装置用于根据目标压力量、抛光头腔室输出的压力量以及控制模型输出抛光头腔室的输入压力量,每组复合控制单元包括:神经网络控制器,用于计算神经网络控制量;比例积分控制器,用于生成比例积分控制量;加权器,用于对神经网络控制量和比例积分控制量以分段变参数控制策略生成抛光头腔室的输入压力量。本发明可以通过神经元的动态在线解耦,减少抛光头腔室的各区之间的耦合。 |
申请公布号 |
CN102490120B |
申请公布日期 |
2013.10.09 |
申请号 |
CN201110388573.2 |
申请日期 |
2011.11.29 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
张辉;门延武;叶佩青;路新春 |
分类号 |
B24B51/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B51/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
宋合成 |
主权项 |
一种用于化学机械抛光机的自适应逆控制系统,其特征在于,包括:目标压力量输入装置、复合控制装置、神经网络辨识装置,其中,所述目标压力量输入装置用于向所述复合控制装置输入化学机械抛光机的抛光头腔室的目标压力量;所述神经网络辨识装置用于根据抛光头腔室的输入压力量和抛光头腔室输出压力量辨识所述用于化学机械抛光机的自适应逆控制系统的控制模型;和所述复合控制装置用于根据所述目标压力量、所述抛光头腔室输出压力量以及所述控制模型计算所述抛光头腔室的输入压力量,其中,所述复合控制装置包括至少一组复合控制单元,其中,每组所述复合控制单元与所述化学机械抛光机的抛光头腔室的每个区对应相连,每组所述复合控制单元包括:神经网络控制器,所述神经网络控制器接收来自所述目标压力量输入装置的所述目标压力量以及所述控制模型生成神经网络控制量;比例积分控制器,所述比例积分控制根据所述目标压力量、所述抛光头腔室输出的压力量生成比例积分控制量;和加权器,所述加权器分别与所述神经网络控制器和所述比例积分控制器相连,用于对所述神经网络控制量和所述比例积分控制量以分段变参数控制策略生成所述抛光头腔室的输入压力量,其中,u=kun+up,其中,u为所述抛光头腔室的输入压力量、un为所述神经网络控制量、up为所述比例积分控制量,k为分段变参数。 |
地址 |
100084 北京市海淀区100084-82信箱 |