发明名称 掩模及使用掩模的成膜方法
摘要 该掩模包括:平板状的第一部分(44),具有在相当于基板(11)的成膜区域(S1)的位置形成的开口部(41)和侧部,以平板状的第一部分(44)与所述基板(11)的被成膜面(11a)重叠的方式配置所述基板(11);第二部分(43),沿着所述第一部分(44)的所述侧部设置,覆盖所述基板(11)的侧面的至少一部分,在多张所述掩模(40、40a、40b、140、142、240、240a、240b、340、340a、340b)向其侧方排列时,彼此邻接的两张所述掩模的所述第二部分(43)分别互相重合,从而形成重合部(B)。
申请公布号 CN102131949B 申请公布日期 2013.10.09
申请号 CN200980133226.6 申请日期 2009.10.21
申请人 株式会社爱发科 发明人 渡井美和;齐藤一也;小松孝;水野雄介;太田淳;黑岩俊二
分类号 C23C14/04(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;H01L31/04(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 陈万青;王珍仙
主权项 一种掩模,其特征在于,包括:平板状的第一部分,具有在相当于基板的成膜区域的位置形成的开口部和侧部,以所述平板状的第一部分与所述基板的被成膜面重叠的方式配置所述基板;和第二部分,沿着所述第一部分的所述侧部设置,覆盖所述基板的侧面的至少一部分,在多张所述掩模向其侧方排列时,彼此邻接的两张所述掩模的所述第二部分分别互相重合,从而形成重合部,所述重合部具有从所述第二部分向着第一方向伸出的凸部和向着与所述第一方向相反的第二方向伸出的凹部,在多张所述掩模向着其侧方排列时,所述凸部与所述凹部互相配合,从所述基板的法线方向来看为重合。
地址 日本神奈川县