一种气体还原装置

摘要

本实用新型提供一种气体还原装置，包括还原室、分流室，以还原室为中心，分流室是套嵌在还原室周边的空腔结构；装置还原室内设置若干交错的带孔流化分布板，粉状物料与从还原室底部进入的气体充分接触并发生还原反应；装置内还原室与分流室间设置若干背压阀，通过精确控制阀门的开启，部分粉状物料可通过背压阀进入分流室，气固分离后进行回收再进入还原室，提高了气体还原效率；装置操作简单，人为因素影响小，使用安全。可用于硅胶负载金属化合物的还原过程，也适用于各种粉状物料的气体还原过程。

主权项

一种气体还原装置，其特征在于包括还原室（5）、分流室（6），以还原室（5）为中心，分流室（6）是套嵌在还原室周边的空腔结构；分流室、还原室可以通过两室之间设置的背压阀实现单向连通；还原室内壁设置多层交错的流化分布板（7），分布板上设有若干小孔；还原室顶部中央设置背压阀（8），物料的进料阀（11），底部中央设有还原气体的进气阀（1）、物料出料阀（2）；分流室顶端对称设置分流阀（9）、（10）；分流室底部两端与还原室接合处设背压阀（3）、（4）。