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发明名称 THIN FILM SEMICONDUCTOR MATERIAL PRODUCED THROUGH REACTIVE SPUTTERING OF ZINC TARGET USING NITROGEN GASES
摘要
申请公布号 EP2148937(A4) 申请公布日期 2013.10.09
申请号 EP20080745292 申请日期 2008.04.08
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 YE, YAN
分类号 C23C14/00;C23C14/06;H01L21/02;H01L21/363;H01L29/786 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人
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