光刻系统、固定方法及晶片工作台

摘要

本发明涉及一种光刻系统，例如用于将图像或图像图案投影到诸如晶片的目标(1)上，所述目标通过目标工作台(2)而包括在所述系统中，固定装置用于将所述目标固定在所述工作台上，其中，所述固定装置包括静止液体层(3)，所述液体层以使得在液体(C)的材料与所述目标(1)和所述目标工作台(2)的各接触面(A、B)的材料的条件下产生压力降(Pcap)的厚度包含在所述目标与所述目标工作台之间。

主权项

一种光刻系统，包括目标(1)，所述目标借助目标工作台(2)而包括在所述系统中，所述系统包括用于将所述目标固定在所述目标工作台上的固定装置，其中，所述固定装置包括接触所述目标(1)和所述目标工作台(2)的各自的面(A、B)的材料的静止液体层(3)，其中所述静止液体层以使得沿所述目标与所述目标工作台之间的间隙(h)形成液体表面(4)并在所述表面(4)产生毛细压力降ΔPcap的厚度毛细地包含在所述目标(1)的面和所述目标工作台(2)的面之间，其中，所述目标工作台配备有间隔件(7，15)，用于限定所述静止液体层(3)的厚度。