发明名称 一种利用原位腐蚀技术提高材料晶体质量的方法
摘要 本发明提供一种利用原位腐蚀技术提高材料晶体质量的方法,解决了现有技术较难控制,易导致材料特性改变的问题。该利用原位腐蚀技术提高材料晶体质量的方法具体是:在常规条件下进行化学气相沉积,使衬底材料上气相外延生长一定厚度的外延层;然后切换常规外延生长条件至分解条件,在上步生成的外延层的表面开始逐渐分解,分解一段时间之后切换分解条件至常规外延生长条件,在常规条件下对经上步处理的外延层继续外延生长,最后循环直到得到符合要求的低位错密度的高品质晶体材料,该方法为后期的器件制备提供良好的基础条件并提高器件性能,延长器件寿命。
申请公布号 CN103343386A 申请公布日期 2013.10.09
申请号 CN201310250676.1 申请日期 2013.06.21
申请人 西安神光皓瑞光电科技有限公司;西安神光安瑞光电科技有限公司 发明人 李淼
分类号 C30B25/02(2006.01)I 主分类号 C30B25/02(2006.01)I
代理机构 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人 杨引雪
主权项 一种利用原位腐蚀技术提高材料晶体质量的方法,其特征在于,包括以下步骤:1]在常规条件下进行化学气相沉积,使衬底材料上气相外延生长一定厚度的外延层;2]切换常规外延生长条件至分解条件,在分解条件下步骤1生成的外延层的表面开始逐渐分解,分解一段时间之后进入步骤3处理;3]切换分解条件至常规外延生长条件,在常规条件下对经步骤2处理的外延层继续外延生长;4]循环步骤2、3直到得到符合要求的低位错密度的高品质晶体材料。
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