| 发明名称 | 一种掩模板 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种掩模板，属于显示装置制造领域。该掩模板，包括掩模板，包括掩模基板以及形成在所述掩模基板上的至少一个图案区域，所述图案区域内包括有不透光区域和完全透光区域，其中，在所述不透光区域的两侧存在完全透光区域时，其中一侧的完全透光区域覆盖有相位偏转膜。通过本实用新型的掩模板，能够有效减少多余的半导体层。 | ||
| 申请公布号 | CN203232243U | 申请公布日期 | 2013.10.09 |
| 申请号 | CN201320229648.7 | 申请日期 | 2013.04.28 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 杨海鹏;尹傛俊;涂志中;金在光 |
| 分类号 | G03F1/32(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/32(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种掩模板，包括掩模基板以及形成在所述掩模基板上的至少一个图案区域，所述图案区域包括有不透光区域和完全透光区域，其特征在于，在所述不透光区域的两侧存在完全透光区域时，其中一侧的完全透光区域覆盖有相位偏转膜。 | ||
| 地址 | 230011 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 | ||