发明名称 光刻装置和器件制造方法
摘要 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中,投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
申请公布号 CN102147574B 申请公布日期 2013.10.09
申请号 CN201110083335.0 申请日期 2004.06.09
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 J·洛夫;H·布特勒;S·N·L·当德斯;A·科勒斯辰科;E·R·鲁普斯特拉;H·J·M·梅杰;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;F·范沙克;T·F·森格斯;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里科克;E·T·M·比拉尔特;C·A·胡根达姆;H·范桑坦;M·A·范德科霍夫;M·克鲁恩;A·J·登博夫;J·J·奥坦斯;J·J·S·M·梅坦斯
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种光刻装置,该装置包括:传感器,定位成用于通过来自投影系统的辐射光束照射;液体供给系统,用于填充在所述投影系统与所述传感器之间的空间;安装在台上的板,其中所述板定位在所述传感器与所述投影系统之间。
地址 荷兰维尔德霍芬
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