发明名称 |
光刻装置和器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中,投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。 |
申请公布号 |
CN102147574B |
申请公布日期 |
2013.10.09 |
申请号 |
CN201110083335.0 |
申请日期 |
2004.06.09 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
J·洛夫;H·布特勒;S·N·L·当德斯;A·科勒斯辰科;E·R·鲁普斯特拉;H·J·M·梅杰;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;F·范沙克;T·F·森格斯;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里科克;E·T·M·比拉尔特;C·A·胡根达姆;H·范桑坦;M·A·范德科霍夫;M·克鲁恩;A·J·登博夫;J·J·奥坦斯;J·J·S·M·梅坦斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种光刻装置,该装置包括:传感器,定位成用于通过来自投影系统的辐射光束照射;液体供给系统,用于填充在所述投影系统与所述传感器之间的空间;安装在台上的板,其中所述板定位在所述传感器与所述投影系统之间。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |