发明名称 一种发光二极管的外延片
摘要 本发明公开了一种发光二极管的外延片,属于半导体技术领域。所述外延片包括:衬底、以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、n型层、多量子阱层和p型层,所述外延片还包括设于所述n型层与所述多量子阱层之间的应力释放层,所述应力释放层为多周期结构,每个周期包括InxGa1-xN层和生长在所述InxGa1-xN层上的GaN层,所述应力释放层各周期结构中的InxGa1-xN层的厚度从下至上递增。本发明通过在n型层与多量子阱层之间设置应力释放层,该应力释放层是多周期结构,且应力释放层各周期结构中的InxGa1-xN层的厚度从下至上递增,可以逐步释放衬底与n型层之间积累的应力,提高了外延片的发光效率。
申请公布号 CN103346223A 申请公布日期 2013.10.09
申请号 CN201310220372.0 申请日期 2013.06.06
申请人 华灿光电股份有限公司 发明人 李红丽;魏世祯;谢文明
分类号 H01L33/12(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I 主分类号 H01L33/12(2010.01)I
代理机构 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人 徐立
主权项 一种发光二极管的外延片,所述外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、n型层、多量子阱层和p型层,其特征在于,所述外延片还包括设于所述n型层与所述多量子阱层之间的应力释放层,所述应力释放层为多周期结构,每个周期包括InxGa1‑xN层和生长在所述InxGa1‑xN层上的GaN层,所述应力释放层各周期结构中的InxGa1‑xN层的厚度从下至上递增。
地址 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号
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