发明名称 |
一种发光二极管的外延片 |
摘要 |
本发明公开了一种发光二极管的外延片,属于半导体技术领域。所述外延片包括:衬底、以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、n型层、多量子阱层和p型层,所述外延片还包括设于所述n型层与所述多量子阱层之间的应力释放层,所述应力释放层为多周期结构,每个周期包括InxGa1-xN层和生长在所述InxGa1-xN层上的GaN层,所述应力释放层各周期结构中的InxGa1-xN层的厚度从下至上递增。本发明通过在n型层与多量子阱层之间设置应力释放层,该应力释放层是多周期结构,且应力释放层各周期结构中的InxGa1-xN层的厚度从下至上递增,可以逐步释放衬底与n型层之间积累的应力,提高了外延片的发光效率。 |
申请公布号 |
CN103346223A |
申请公布日期 |
2013.10.09 |
申请号 |
CN201310220372.0 |
申请日期 |
2013.06.06 |
申请人 |
华灿光电股份有限公司 |
发明人 |
李红丽;魏世祯;谢文明 |
分类号 |
H01L33/12(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/12(2010.01)I |
代理机构 |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人 |
徐立 |
主权项 |
一种发光二极管的外延片,所述外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、n型层、多量子阱层和p型层,其特征在于,所述外延片还包括设于所述n型层与所述多量子阱层之间的应力释放层,所述应力释放层为多周期结构,每个周期包括InxGa1‑xN层和生长在所述InxGa1‑xN层上的GaN层,所述应力释放层各周期结构中的InxGa1‑xN层的厚度从下至上递增。 |
地址 |
430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号 |