发明名称 |
一种改性SiO<sub>2</sub>/PVA薄膜及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种改性SiO2/PVA薄膜及其制备方法。该薄膜是由质量比的m份改性SiO2粒子和m~100份PVA在溶解温度下溶解、冷却浇模成型,或在熔融温度下一次成型,其中0<m≤20,所述PVA采用PVA1750、PVA1778、PVA1788、PVA1798中的一种。该薄膜可以采用流延法、挤出吹塑法或压延法制得。此改性SiO2制备方法简单,改性SiO2粒子在PVA中能均匀分散,聚醚胺分子链中的醚氧键、胺基与PVA中羟基能形成氢键,使制备的SiO2/PVA薄膜抗拉伸强度、模量、热稳定性显著提高,特别适用于制备透明PVA薄膜制品。 |
申请公布号 |
CN103342870A |
申请公布日期 |
2013.10.09 |
申请号 |
CN201310320091.2 |
申请日期 |
2013.07.26 |
申请人 |
武汉理工大学 |
发明人 |
王雁冰;程龙山;李文静;周晨光;陈娜;彭睿;魏冲;黄志雄 |
分类号 |
C08L29/04(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K9/04(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;B29C39/02(2006.01)I;B29C49/04(2006.01)I |
主分类号 |
C08L29/04(2006.01)I |
代理机构 |
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 |
代理人 |
王守仁 |
主权项 |
一种改性SiO2/PVA薄膜,其特征在于:该薄膜是由质量比的m份改性SiO2粒子和m~100份PVA在溶解温度下溶解、冷却浇模成型,或在熔融温度下一次成型,其中0<m≤20,所述PVA采用PVA1750、PVA1778、PVA1788、PVA1798中的一种。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号 |