发明名称 |
Al基合金溅射靶 |
摘要 |
提供一种Al基合金溅射靶,其能够消除在溅射的初期阶段发生的问题(例如飞溅的个数的增加和所形成的薄膜的电阻的上升),可以缩短预溅射时间。本发明涉及一种Al基合金溅射靶,其中,以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时,算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下,以及最大高度Rz为10μm以下,并且,将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q,跨越基准长度100mm,依次计数P和Q时,P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。 |
申请公布号 |
CN102102183B |
申请公布日期 |
2013.10.09 |
申请号 |
CN201010597854.4 |
申请日期 |
2010.12.16 |
申请人 |
株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研 |
发明人 |
高木敏晃;松本克史;岩崎祐纪;长尾护;莳野秀忠 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
张宝荣 |
主权项 |
一种纯Al或Al合金溅射靶,其特征在于,以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时,算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下,以及最大高度Rz为10μm以下,并且,将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q,跨越基准长度100mm,依次计数P和Q时,P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。 |
地址 |
日本兵库县 |