发明名称 Al基合金溅射靶
摘要 提供一种Al基合金溅射靶,其能够消除在溅射的初期阶段发生的问题(例如飞溅的个数的增加和所形成的薄膜的电阻的上升),可以缩短预溅射时间。本发明涉及一种Al基合金溅射靶,其中,以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时,算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下,以及最大高度Rz为10μm以下,并且,将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q,跨越基准长度100mm,依次计数P和Q时,P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。
申请公布号 CN102102183B 申请公布日期 2013.10.09
申请号 CN201010597854.4 申请日期 2010.12.16
申请人 株式会社神户制钢所;株式会社钢臂功科研 发明人 高木敏晃;松本克史;岩崎祐纪;长尾护;莳野秀忠
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 张宝荣
主权项 一种纯Al或Al合金溅射靶,其特征在于,以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时,算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下,以及最大高度Rz为10μm以下,并且,将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q,跨越基准长度100mm,依次计数P和Q时,P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。
地址 日本兵库县