| 发明名称 | 具有带有凸台的喷射室的流体喷射装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种流体喷射装置，其包括喷射室，该喷射室具有与室底板相对的喷射孔口、加热元件和从室底板凸出的凸台，凸台与加热元件隔开，在凸台和加热元件之间限定无源区域。 | ||
| 申请公布号 | CN103347703A | 申请公布日期 | 2013.10.09 |
| 申请号 | CN201280007172.0 | 申请日期 | 2012.01.31 |
| 申请人 | 惠普发展公司，有限责任合伙企业 | 发明人 | L.H.怀特;P.马迪洛维奇;E.D.托尔尼艾宁;J.A.费恩;T.R.斯特兰;T.S.克鲁斯-乌里贝 |
| 分类号 | B41J2/175(2006.01)I;B41J2/045(2006.01)I;B41J2/14(2006.01)I | 主分类号 | B41J2/175(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 冯春时;谭祐祥 |
| 主权项 | 一种流体喷射装置，包括：喷射室，具有与室底板相对的喷射孔口；在所述喷射室内的加热元件，所述加热元件加热所述喷射室内的流体，以便将流体喷射通过所述喷射孔口；以及从所述室底板凸出以便引导流体从所述喷射室喷射的凸台，其中，所述凸台与所述加热元件隔开，在所述凸台和加热元件之间限定无源区域，以便在流体喷射时接收和抑制冲击在所述室底板上的力。 | ||
| 地址 | 美国德克萨斯州 | ||