曝光装置及元件制造方法

摘要

本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。

主权项

一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并透过该投影光学系统与该液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：功能液供应装置，用以对与该液体接触的既定构件供应具有既定功能且与使该基板曝光时形成的液浸区域的液体不同的功能液；以及嘴构件，具有用来形成该液浸区域的供应该液体的供应口及回收从该供应口供应的液体的回收口中至少一者、与可配置该投影光学系统中最靠近像面的光学元件的孔部。