基于Bi系光催化半导体功能织物的低温原位制备方法

摘要

本发明涉及一种基于Bi系光催化半导体功能织物的低温原位制备方法，包括：(1)用有机溶剂超声清洗织物，再在高效净洗剂中处理，得到处理后的织物；(2)在惰性环境下，将硝酸铋与乙二胺四乙酸二钠分别加入碱性缓冲液中，滴加润湿剂，得到溶液A；在惰性环境下，将偏钒酸钠加入碱性缓冲液中，搅拌时加入氢氧化钠溶液和去离子水，得到溶液B；(3)将溶液B逐滴加入至溶液A中，得到光催化前驱体溶液；(4)将步骤(1)得到的处理后的织物浸渍到上述光催化前驱体溶液，烘干后在沸水中处理，最后烘干，即得。本发明的制备方法简单，成本低，易于工业化生产；本发明的柔性光催化环境净化材料废水处理效果好，无二次污染，可长期使用。

主权项

一种基于Bi系光催化半导体功能织物的低温原位制备方法，包括： （1）用有机溶剂超声清洗织物30～60min，20～30℃干燥10～12h，再在高效净洗剂中40～45℃下处理15～25min，80～85℃干燥20～30min，得到处理后的织物； （2）在惰性环境下，将摩尔比为1:2的硝酸铋与乙二胺四乙酸二钠分别加入碱性缓冲液中，滴加润湿剂，于200～300rpm搅拌20～30min，得到溶液A； 在惰性环境下，将与溶液A中硝酸铋相同摩尔数的偏钒酸钠加入碱性缓冲液中，200～300rpm搅拌5～10min，并在搅拌过程中依次逐滴加入氢氧化钠溶液和去离子水，得到溶液B； （3）将溶液B逐滴加入至溶液A中，控制转移速率为1～1.5ml/min，均匀混合形成整理液LOC，并置于水浴中，从室温升温至80～95℃，控制升温速率在2～3℃/min，得到光催化前驱体溶液； （4）将步骤（1）得到的处理后的织物浸渍到上述光催化前驱体溶液中反应8～12h，之后在65～70℃下烘干，然后在90～100℃沸水中处理1～2h，最后于40～50℃烘干，即得。