单原子层氮化硼在表面涂层中的应用

摘要

本发明提供了单原子层氮化硼在表面涂层中的应用，可应用的基底包括带有绝缘氧化层或绝缘介电层的金属或半导体，或是高分子柔性材料，或是不导电的无机材料，或是导电的金属，或是光敏半导体材料。基底表面可以是平整的或弯曲的。氮化硼膜层的制备方法包括化学气相沉积、外延生长、等离子体溅射、磁控溅射。结合氮化硼的方式可以是直接生长或者转移至基底表面。该涂层在几乎不改变基底的厚度与外观的情况下，直接将基底的润湿性转化为氮化硼本身的润湿性、增强基底的抗摩擦性能和抗氧化性能。

主权项

一种单原子层氮化硼在表面涂层中的应用。