发明名称 传送辊
摘要 本实用新型涉及一种辊传送系统的传送辊,其用于将至少一个面状的硅基片传送通过光伏基片加工设备的温度受控的处理室,所述硅基片在其被传送经过所述处理室的过程中在所述加工设备中被加工。本实用新型的目的在于提出一种适合在光伏工业中用于传送硅基片的传送辊,通过这种传送辊将硅基片沿着所希望的传送方向可靠传送,由此避免了由于在传送辊上的摩擦而造成的硅基片磨损、或者把磨损减少到无关紧要的程度,并且所述传送辊适合在高温使用。该目的通过所述类型的一种传送辊而实现,其中在构成至少一个与传送辊一体构成的基片引导区域的情况下使所述传送辊成型,其中所述至少一个基片引导区域具有侧向的末端区域,在末端区域上放置有硅基片并且末端区域的直径大于在这些末端区域之间的、所述基片引导区域的中间区域的直径,从而防止硅基片的支撑侧在该中间区域中与所述传送辊的接触或使这种接触最小化,但不因此中断所述传送辊。
申请公布号 CN203225240U 申请公布日期 2013.10.02
申请号 CN201190000241.6 申请日期 2011.11.30
申请人 德国罗特·劳股份有限公司 发明人 M·迈耶;S·弗雷格;M·斯托德
分类号 H01L21/677(2006.01)I;B65G39/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/677(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 党晓林;王小东
主权项 一种辊传送系统的传送辊(1),其用于将至少一个面状的硅基片(8)传送通过光伏基片加工设备的温度受控的处理室,该硅基片(8)在其被传送通过该处理室的过程中在该所述光伏基片加工设备中被加工,该传送辊(1)由耐热性至少高达300°C的材料制成, 其特征在于, 所述传送辊(1)是在形成至少一个基片引导区域(2)的情况下成型的,所述基片引导区域与所述传送辊(1)一体构成, 其中,该至少一个基片引导区域(2)具有侧向的末端区域(3),在所述末端区域上放置该硅基片(8),并且所述末端区域的直径大于位于所述末端区域(3)之间的、该基片引导区域(2)的中间区域(4)的直径,从而防止或者减少了该硅基片(8)的支撑侧在该中间区域(4)与该传送辊(1)接触,而且该传送辊(1)无需为此而设有中断。
地址 德国霍恩施泰因-恩斯塔尔