发明名称 干发器
摘要 本实用新型公开了一种干发器,包括本体,具有第一环形壁和绕第一环形壁延伸的第二环形壁,第一环形壁至少部分地限定延伸穿过本体的孔;流体流动路径,从第一流体入口延伸穿过所述孔到达第一流体出口,第一流体流通过第一流体入口进入器具;主流体流动路径,至少部分地穿过本体延伸,且从第二流体入口延伸到第二流体出口,主流体流通过第二流体入口进入器具,主流体流动路径在本体内包括第一区段和第二区段;以及加热器,定位在主流体流动路径的第二区段中,其中主流体流动路径的第一区段被布置为引导流体到至少一个环形壁的内表面上,且其中主流体流动路径的第一区段被布置在主流体流动路径的第二区段的上游或平行于第二区段。由此提供了高效的干发器。
申请公布号 CN203220053U 申请公布日期 2013.10.02
申请号 CN201320158226.5 申请日期 2013.04.01
申请人 戴森技术有限公司 发明人 P.J.W.莫洛尼;P.D.甘马克
分类号 A45D20/10(2006.01)I 主分类号 A45D20/10(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陈钘
主权项 一种干发器,其特征在于,该干发器包括本体,具有第一环形壁和绕第一环形壁延伸的第二环形壁,第一环形壁至少部分地限定延伸穿过本体的孔;流体流动路径,从第一流体入口延伸穿过所述孔到达第一流体出口,第一流体流通过第一流体入口进入干发器,第一流体出口用于将第一流体流从干发器发射;主流体流动路径,至少部分地延伸穿过本体,且从第二流体入口延伸到第二流体出口,主流体流通过第二流体入口进入干发器,主流体流动路径在本体内包括第一区段和第二区段;以及加热器,定位在主流体流动路径的第二区段中,其中主流体流动路径的第一区段被布置为引导流体到至少一个环形壁的内表面上,且其中主流体流动路径的第一区段被布置在主流体流动路径的第二区段的上游或平行于该第二区段。
地址 英国威尔特郡