一种图形化衬底制作方法

摘要

本发明涉及一种图形化衬底制作方法。本方法在衬底的正面采用光刻工艺定义出部分图形化衬底的图案区域，然后在衬底的正面淀积阻挡层，采用lift-off工艺剥离光刻胶，留下衬底表面的阻挡层。再进行一次光刻工艺第一出剩余部分图形化衬底的图案区域，然后在衬底的正面淀积阻挡层，采用lift-off工艺剥离光刻胶，留下衬底表面的阻挡层。最后进行干法或湿法刻蚀工艺，形成图形化衬底。如此可以解决曝光视场之间产生拼接误差，图案拼接部分发生形变，影响HBLED的发光效率的问题。

主权项

一种图形化衬底制作方法，其特征在于具有如下的制造工艺步骤：1）取一片蓝宝石衬底，在该蓝宝石衬底上旋涂光刻胶进行第一次光刻工艺，定义出一部分PSS图形区域；2）在衬底上淀积一层阻挡层，采用lift‑off工艺去除光刻胶和光刻胶上的阻挡层；3）在衬底旋涂光刻胶进行第二次光刻工艺，定义出其余PSS图形区域；4）在衬底上再淀积一层阻挡层，采用lift‑off工艺去除光刻胶和光刻胶上的阻挡层；5）采用湿法或干法刻蚀工艺，对蓝宝石衬底进行刻蚀，形成PSS图形。