防污染装置

摘要

本发明公开了一种防污染装置，涉及半导体晶片工艺技术领域，包括：吹扫单元、供气管道和气体供应单元，在所述吹扫单元内设有通气管，所述吹扫单元的上端设有若干第一气孔，所述若干第一气孔分别与所述通气管连通，所述供气管道的一端与所述通气管连通，所述供气管道的另一端与所述气体供应单元连通。本发明通过设置吹扫单元，实现了防止清洗液及清洗产物沿晶片边缘进入晶片背面，从而防止晶片背面和边缘形成缺陷。

主权项

一种防污染装置，其特征在于，包括：吹扫单元、供气管道和气体供应单元，在所述吹扫单元内设有通气管，所述吹扫单元的上端设有若干第一气孔，所述若干第一气孔分别与所述通气管连通，所述供气管道的一端与所述通气管连通，所述供气管道的另一端与所述气体供应单元连通；所述吹扫单元为中空的圆台形、且上底面的直径小于下底面的直径，所述通气管绕所述吹扫单元的圆周方向一周设置，所述吹扫单元上端的外侧壁与内侧壁之间的夹角为锐角；所述吹扫单元的上端为圆环形，所述圆环形的外圆与所述吹扫单元的外侧壁连接，所述圆环形的内圆与所述吹扫单元的内侧壁连接，所述若干第一气孔设于所述吹扫单元的上端。