发明名称 |
下陷印刷釉及其制作方法 |
摘要 |
本发明提供了一种下陷印刷釉及其制作方法,所述下陷印刷釉,由如下重量百分比的组分组成:低温溶剂40~65%,石英20~40%,五氧化二钒15~20%。本发明下陷釉可以当做普通印刷釉参合在印花花釉中印刷于未烧面釉上,不影响花釉发色,对于下陷深浅度可以根据参合量来控制,需要下陷深度深加一些,需要下陷深度浅则少加一些。本发明不需要特殊的模具,只是在施了釉但尚未釉烧的釉面上印上含有本发明材料的图案,釉烧后便在釉面上产生了具有凹凸感的图案。用这种方法产生的凹凸感图案,立体感强,色彩丰富,工艺简单,成本低廉,装饰效果新颖,适合工厂产业化生产。 |
申请公布号 |
CN102491786B |
申请公布日期 |
2013.10.02 |
申请号 |
CN201110359585.2 |
申请日期 |
2011.11.14 |
申请人 |
星谊精密陶瓷科技(昆山)有限公司 |
发明人 |
蔡国桢;杜文男 |
分类号 |
C04B41/86(2006.01)I |
主分类号 |
C04B41/86(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
1.下陷印刷釉,其特征在于,由如下重量百分比的组分组成:低温溶剂 40~65%石英 20~40%五氧化二钒 15~20%以上各个组分的百分比之和为100%,所述低温溶剂由如下重量百分比的组分组成:<img file="FDA00003323469200011.GIF" wi="1000" he="821" />以上各个组分的百分比之和为100%。 |
地址 |
215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇新南中路555号 |