| 发明名称 | CMP用研磨液以及使用该研磨液的研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，<img file="DDA00003363160500011.GIF" wi="826" he="488" />式中，X<sup>11</sup>、X<sup>12</sup>和X<sup>13</sup>各自独立地为氢原子或1价的取代基，其中，所述研磨粒包含具有晶界的多晶氧化铈。 | ||
| 申请公布号 | CN103333662A | 申请公布日期 | 2013.10.02 |
| 申请号 | CN201310241747.1 | 申请日期 | 2009.12.10 |
| 申请人 | 日立化成工业株式会社 | 发明人 | 佐藤英一;太田宗宏;茅根环司;野部茂;榎本和宏;木村忠广;深泽正人;羽广昌信;星阳介 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 金鲜英;王未东 |
| 主权项 | 1.一种研磨液，其为含有研磨粒、第1添加剂和水的CMP用研磨液，所述第1添加剂为4－吡喃酮系化合物，该4－吡喃酮系化合物为下述通式（1）所表示的化合物，<img file="FDA00003363160200011.GIF" wi="840" he="503" />式中，X<sup>11</sup>、X<sup>12</sup>和X<sup>13</sup>各自独立地为氢原子或1价的取代基，其中，所述研磨粒包含具有晶界的多晶氧化铈。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||