发明名称 |
浅埋暗挖地下通道变截面交叉中隔墙施工方法 |
摘要 |
本发明提供一种浅埋暗挖地下通道变截面交叉中隔墙施工方法,其特征在于,它包括以下步骤:1)沿开挖方向将通道的第一断面划分若干个导洞;2)采用CRD法完成通道第一断面至第三断面的初期支护;3)将第四断面划分若干个导洞;4)将第二断面至第四断面间的上层、中层和下层的每个临时仰拱面分别进行换撑为新的临时仰拱;5)在三个新的临时仰拱坡面按照要求铺设纵向钢筋并与其焊牢;6)以中层和下层的两个新的临时仰拱坡面为施工行走的通道按照CRD法完成第四断面至第五断面的地下通道初期支护;7)分段拆除从临时仰拱支撑,并同时分段二次衬砌地下通道,完成主体结构。由于采用了变截面通道换撑的工序转换,使得CRD工法能从头至尾按要求连续作业、可节省费用,提高功效。 |
申请公布号 |
CN103334761A |
申请公布日期 |
2013.10.02 |
申请号 |
CN201310265191.X |
申请日期 |
2013.06.28 |
申请人 |
中国一冶集团有限公司 |
发明人 |
黎明中;姜平 |
分类号 |
E21D9/00(2006.01)I;E21D11/18(2006.01)I |
主分类号 |
E21D9/00(2006.01)I |
代理机构 |
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 |
代理人 |
邬丽明;唐万荣 |
主权项 |
浅埋暗挖地下通道变截面交叉中隔墙施工方法,其特征在于,它包括以下步骤:1)沿开挖方向将通道的第一断面划分若干个导洞;2)采用CRD法完成通道第一断面、第二断面、至第三断面的初期支护,所述第一断面、第二断面、及第三断面的面积均相等;3)将第四断面划分若干个导洞,所述第四断面与第三断面位于同一平面,所述第四断面的面积小于第三断面;4)将第二断面至第四断面间的上层、中层和下层的每个临时仰拱面分别进行换撑为新的临时仰拱,所述上层、中层和下层之间所形成的三个新临时仰拱坡面与水平面角度均小于等于30度;5)在三个新的临时仰拱坡面按照要求铺设纵向钢筋并与其焊牢;6)以中层和下层的两个新的临时仰拱坡面为施工行走的通道按照CRD法完成第四断面至第五断面的地下通道初期支护,第四断面与第五断面的面积相等;7)分段拆除从第一断面至第五断面地下通道的临时仰拱支撑,并同时分段二次衬砌第一断面到第五断面的地下通道,完成主体结构。 |
地址 |
430081 湖北省武汉市青山区工业大道3号 |