| 发明名称 | 滤色器及其制造方法以及液晶显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种滤色器的制造方法，其具有：黑矩阵形成工序，包括：通过使用感光性黑色组合物在基板上形成感光性黑色组合物层、将所述感光性黑色组合物层曝光以及将曝光后的所述感光性黑色组合物层显影来形成具有底切的黑矩阵图案，其中，该底切的长度在黑矩阵宽度方向上为-2.0μm～5.0μm，然后将形成的黑矩阵图案烘烤；着色图案形成工序，包括：通过使用感光性着色组合物在烘烤后的形成了黑矩阵的所述基板上形成感光性着色组合物层、将所述感光性着色组合物层曝光、将曝光后的所述感光性着色组合物层显影以及将显影后的所述感光性着色组合物层烘烤来形成着色图案，其中，该烘烤后的该着色图案与所述黑矩阵相重叠的重叠部在黑矩阵宽度方向上的长度为2.0μm～9.0μm。 | ||
| 申请公布号 | CN101493648B | 申请公布日期 | 2013.10.02 |
| 申请号 | CN200910002784.0 | 申请日期 | 2009.01.22 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 吉野晴彦 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 一种滤色器的制造方法，其具有：黑矩阵形成工序，包括：通过使用感光性黑色组合物在基板上形成感光性黑色组合物层、将所述感光性黑色组合物层曝光以及将曝光后的所述感光性黑色组合物层显影来形成具有底切的黑矩阵图案，然后将所形成的黑矩阵图案烘烤，其中，该底切的长度在黑矩阵宽度方向上为‑2.0μm～5.0μm；着色图案形成工序，包括：通过使用感光性着色组合物在烘烤后的形成有黑矩阵的所述基板上形成感光性着色组合物层、将所述感光性着色组合物层曝光、将曝光后的所述感光性着色组合物层显影以及将显影后的所述感光性着色组合物层烘烤来形成着色图案，其中，该烘烤后的该着色图案与所述黑矩阵相重叠的重叠部在黑矩阵宽度方向上的长度为2.0μm～9.0μm，在所述基板上形成的所述感光性黑色组合物层的厚度为0.2μm～2.2μm，所述感光性着色组合物层的层厚为1.8μm～2.8μm。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||