含噻吩并噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴类共聚物、其制备方法和应用

摘要

本发明属于光电子材料领域，其公开了一种含噻吩并噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴类共聚物，其具有结构式(I)，式中：R1、R2、R3为C1-C20的烷基；R4、R5、R6、R7、R8、R9为氢或C1-C20的烷基；x+y＝1，x≠0，y≠0；n为1-200之间的整数。本发明还公开了含噻吩并噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴类共聚物的制备方法及其应用。与现有技术相比，本发明通过引入烷基提高产物的溶解性和分子量，以实现可旋涂的聚合物或可旋涂的寡聚物；由单体B1、B2、B5构成的聚合物能够形成一种很强的给体-受体结构，一方面有利于提高了材料的稳定性，另一方面有利于降低材料的能带隙，从而扩大太阳光吸收范围，提高光电转化效率；Suzuki反应是一种非常成熟的聚合反应，产率高，且条件温和，易于控制。

主权项

1.一种含噻吩并噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴类共聚物，其特征在于，其具有以下结构式（I）：式中：R₁、R₂、R₃为C₁-C₂₀的烷基；R₄、R₅、R₆、R₇、R₈、R₉为氢或C₁-C₂₀的烷基；x＋y＝1，x≠0，y≠0；n为1-200之间的整数。