| 发明名称 | 用于晶片级磷光体沉积的系统 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于晶片级磷光体沉积的系统。一种用于在具有多个LED裸片的半导体晶片上进行磷光体沉积的方法包括以下操作：用选择的厚度的光刻胶材料覆盖半导体晶片；去除光刻胶材料的多个部分以暴露半导体晶片的多个部分，使得与多个LED裸片关联的电接触保持未暴露；并且在半导体晶片的暴露的多个部分上沉积磷光体。 | ||
| 申请公布号 | CN103339720A | 申请公布日期 | 2013.10.02 |
| 申请号 | CN201180065834.5 | 申请日期 | 2011.12.05 |
| 申请人 | 普瑞光电股份有限公司 | 发明人 | 徐涛 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 酆迅 |
| 主权项 | 一种用于在包括多个LED裸片的半导体晶片上进行磷光体沉积的方法，所述方法包括：用选择的厚度的光刻胶材料覆盖所述半导体晶片；去除所述光刻胶材料的多个部分以暴露所述半导体晶片的多个部分，使得与所述多个LED裸片关联的电接触保持未暴露；并且在所述半导体晶片的所暴露的多个部分上沉积磷光体。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||