| 摘要 |
Eine Anordnung zur optischen Detektion vergrabener Schichten von flachen Objekten mit mehreren Schichten, insbesondere Wafer, enthaltend eine Strahlungsquelle zur Beleuchtung der Oberfläche des Objekts; ein im Strahlengang angeordnetes Polarisationsfilter; und einen Detektor zur Erfassung von der Oberfläche des Objekts reflektierten oder von dem Objekt durchgelassenen Strahlung; ist dadurch gekennzeichnet, dass die der Strahlungsquelle am nächsten liegende Schicht des Objekts für die Strahlung der Strahlungsquelle zumindest teilweise durchlässig ist; das Polarisationsfilter nur für Strahlung durchlässig ist, die parallel zur Einfallsebene polarisiert ist; und die Beleuchtung der Oberfläche des Objekts unter Brewsterwinkel erfolgt. Die Oberfläche des Objekts wird vorzugsweise mit unpolarisierter Strahlung beleuchtet und das Polarisationsfilter ist im Strahlengang zwischen der Oberfläche des Objekts und dem Detektor angeordnet. |
