一种化学机械抛光液

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液，其特征在于含有：磨料、氧化剂、水和下述络合剂中的一种或多种：三氮唑、碳原子上含有给电子取代基的三唑化合物、嘧啶、嘧啶衍生物、哌嗪和哌嗪衍生物。本发明的化学机械抛光液对Cu的去除速率对其所含的双氧水的浓度变化的敏感度较高。采用本发明的抛光液抛光后，铜表面比较光滑，表面形貌较好。

主权项

一种化学机械抛光液，其特征在于含有：磨料、双氧水、水和下述络合剂中的一种或多种：乙胺嘧啶、哌嗪，1，2，4‑三氮唑；5‑羧基‑3‑氨基‑1,2,4‑三氮唑或3‑氨基‑1,2,4‑三氮唑；哌嗪六水，其中所述的络合剂的含量为质量百分比0.1～5%，所述的双氧水的含量为质量百分比0.1～10%。