| 摘要 |
一种如通式(1)表示之鋶盐。;(1);(R1为可被氟原子或其他杂原子取代之C1～10的伸烷基或C6～10的伸芳基。R2表示甲基、第三丁基、甲氧基、或第三丁氧基，又，表示与彼此不同之苯环之氧原子、亚甲基、碸之键结基或直接链结。m为0～5，n为0～4。);本发明之鋶盐对于浸润式曝光之水溶出性低，可藉由高能量束照射，将化学放大型正型光阻材料中的酸不稳定基有效率地切断，在化学放大型负型光阻材料的情况中，可有效率地进行酸交联反应，也可使挥发物减少。因此，即使在EB、EUV曝光时等的高真空条件下也难以挥发，故污染曝光机台的可能性低。故，在作为化学放大型光阻材料之光酸产生剂方面非常有用。 |
