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发明名称
真空吸着控制机构装置、薄膜贴附装置及显示装置
摘要
本发明之课题,系提供一种构造很单纯,而且能精度良好地使薄膜贴附在被贴附物上之真空吸着控制机构装置。本发明之真空吸着控制机构装置,系具有:贴附头,在内部具有空间;复数吸着孔,被设成自前述贴附头表面贯穿至内部之前述空间,将薄膜加以吸着;移动隔片,被设成在前述空间内部一边与前述吸着孔接触,一边相对于前述贴附头移动,使前述空间分隔成2个领域;以及连接部,设于2个前述领域中之第1领域,可连接到减压源。
申请公布号
TWI410323
申请公布日期
2013.10.01
申请号
TW097132894
申请日期
2008.08.28
申请人
NLT科技股份有限公司 日本
发明人
小寺秀树
分类号
B29C65/78;B65H37/04;G02F1/1335;G02F1/13;G02B5/30
主分类号
B29C65/78
代理机构
代理人
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址
日本
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