先进制程控制方法和系统

摘要

本发明之一实施例提供一种先进制程控制方法，适用于半导体制造，包括：提供即将被半导体机台处理之目前晶圆；提供半导体制造机台所处理过之多个先前晶圆之第一资料；将杂讯自第一资料去耦合，用以产生第二资料；根据第二资料与目标资料的邻近程度，评估先进制程控制执行效能；根据上述先进制程控制执行效能，决定控制参数；以及根据控制参数，控制半导体制造机台，用以处理目前晶圆。