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发明名称
离子布植方法及其应用
摘要
一种使整个工件达到角度均匀之离子布植方法被提供,其中离子束具有至少一细离子束以相对应之入射角撞击工件表面,工件被映射至一假想的平面座标系统,离子束之细离子束的入射角在平面座标系统具有一投影,且与座标的一轴构成一投射角度。工件的工件方位系依据投射角度进行调整,使得每一细离子束对撞击在工件表面的整体离子束强度的贡献于每一座标轴的各自方向呈现上大致相同。
申请公布号
TWI411000
申请公布日期
2013.10.01
申请号
TW098145551
申请日期
2009.12.29
申请人
汉辰科技股份有限公司 美国
发明人
万 志民
分类号
H01J37/317;H01L21/265
主分类号
H01J37/317
代理机构
代理人
蔡朝安 新竹市科学工业园区力行一路1号E之1;郑淑芬 新竹市科学工业园区力行一路1号E之1
主权项
地址
美国
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