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发明名称
包含氧化钽层之方法、结构与装置
摘要
本发明揭示一种包含邻近于氮化铌的氧化钽层之方法、结构与装置。在某些具体实施例中,氮化铌系结晶的并且具有六方最密堆积结构。视需要,该氮化铌可具有包含邻近于其至少一部分的氧化铌之表面。在某些具体实施例中,氧化钽层系结晶学纹理化的并具有六边形结构。
申请公布号
TWI411096
申请公布日期
2013.10.01
申请号
TW097116005
申请日期
2008.04.30
申请人
美光科技公司 美国
发明人
微许瓦那斯 巴特
分类号
H01L27/04;H01L21/314;H01L21/8242
主分类号
H01L27/04
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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