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发明名称
具有低注入二极体的MOS元件
摘要
一种形成在半导体基底上的半导体元件。所述元件包括:一汲极;覆盖所述汲极的磊晶层;以及主动区。所述主动区包括:一本体系置于所述磊晶层中,并具有本体顶表面;源极嵌入在所述本体中,并从所述本体顶表面延伸至所述本体中;闸极沟槽延伸至所述磊晶层中;一闸极系置于所述闸极沟槽中;主动区接触沟槽系延伸通过所述源极且延伸至所述本体中;一主动区接触电极系置于所述主动区接触沟槽内;其中本体区的薄层将所述主动区接触电极与所述汲极分开。
申请公布号
TWI411108
申请公布日期
2013.10.01
申请号
TW097145539
申请日期
2008.11.25
申请人
万国半导体股份有限公司 百慕达
发明人
安荷叭剌;王晓彬;潘继;魏松坡
分类号
H01L29/78;H01L21/336
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项
地址
百慕达
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