发明名称 |
半导体晶粒及形成导电元件之方法 |
摘要 |
本发明提供一种半导体晶粒,包括一基底;一接合垫,形成于基底上方,接合垫具有一第一宽度;一聚亚醯胺层,形成于基底和接合垫上方,聚亚醯胺层于接合垫上方具有一第一开口,第一开口有一第二宽度;一矽基保护层,位于聚亚醯胺层上,矽基保护层于接合垫上方具有一第二开口,第二开口有一第三宽度,其中第一开口和第二开口形成一具有侧壁之组合开口,暴露部分接合垫;一凸块下金属化层,位于组合开口之侧壁上方,且接触接合垫之暴露部分;及一导电元件,位于凸块下金属化层上。 |
申请公布号 |
TWI411079 |
申请公布日期 |
2013.10.01 |
申请号 |
TW099134680 |
申请日期 |
2010.10.12 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
发明人 |
黄见翎;吴逸文;刘重希 |
分类号 |
H01L23/488;H01L21/60 |
主分类号 |
H01L23/488 |
代理机构 |
|
代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
|
地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |