发明名称 半导体晶粒及形成导电元件之方法
摘要 本发明提供一种半导体晶粒,包括一基底;一接合垫,形成于基底上方,接合垫具有一第一宽度;一聚亚醯胺层,形成于基底和接合垫上方,聚亚醯胺层于接合垫上方具有一第一开口,第一开口有一第二宽度;一矽基保护层,位于聚亚醯胺层上,矽基保护层于接合垫上方具有一第二开口,第二开口有一第三宽度,其中第一开口和第二开口形成一具有侧壁之组合开口,暴露部分接合垫;一凸块下金属化层,位于组合开口之侧壁上方,且接触接合垫之暴露部分;及一导电元件,位于凸块下金属化层上。
申请公布号 TWI411079 申请公布日期 2013.10.01
申请号 TW099134680 申请日期 2010.10.12
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 发明人 黄见翎;吴逸文;刘重希
分类号 H01L23/488;H01L21/60 主分类号 H01L23/488
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号