| 摘要 |
<p>Dispositif pour former un revêtement microstructuré sur un substrat, comprenant une bande (18) microstructurée déplaçable en roulant sans glissement sur le substrat en contournant des organes d'appui principaux (12, 14) montés sur un châssis, ainsi que des organes d'appui secondaires (28) montés sur le châssis de manière à être au contact d'une face intérieure (29) de la bande dans une zone (26) d'un brin (24) de celle-ci délimité entre lesdits organes d'appui principaux (12, 14), laquelle zone (26) est exposée à l'action de moyens de durcissement (22) permettant l'accélération du durcissement d'un matériau durcissable destiné à former ledit revêtement. Procédé pour former un revêtement microstructuré au moyen du dispositif précité.</p> |
