发明名称 |
有机EL器件制造装置及有机EL器件制造方法以及成膜装置及成膜方法 |
摘要 |
本发明提供能高精密地成膜或者生产率或运转率高的有机EL器件制造装置或有机EL器件制造方法或者成膜装置或成膜方法。本发明的特征在于,从设置于真空蒸镀腔的壁上的真空隔离机构搬出上述掩模,在共有上述真空隔离机构的掩模洗净腔内对附着于上述基板上的上述蒸镀材料的堆积物照射激光而对上述掩模进行干式洗净,在洗净后使上述掩模通过真空隔离机构返回上述真空蒸镀腔,并进行上述蒸镀。 |
申请公布号 |
CN102031486B |
申请公布日期 |
2013.09.25 |
申请号 |
CN201010264455.6 |
申请日期 |
2010.08.26 |
申请人 |
株式会社日立高新技术 |
发明人 |
弓场贤治;片桐贤司;井崎良;片冈文雄 |
分类号 |
C23C14/24(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
张敬强 |
主权项 |
一种成膜装置,在真空腔内进行基板与掩模的对准,具有将蒸镀材料蒸镀在上述基板上的真空蒸镀腔,其特征在于,具有:对附着于上述基板上的上述蒸镀材料的堆积物照射激光并对上述掩模进行干式洗净的掩模洗净室;设置在上述真空蒸镀腔与上述掩模洗净室的连接部上的真空隔离机构;以及在上述真空蒸镀腔与上述掩模洗净室之间通过上述真空隔离机构搬运上述掩模的搬运机构。 |
地址 |
日本东京都 |