发明名称 一种功率半导体芯片及其制备方法
摘要 本发明提供了一种功率半导体芯片及其制备方法,该功率半导体芯片是由N个元胞单元并联形成的。其中,至少一个所述元胞单元上包括位于元胞单元外围的金属硅化物层,该金属硅化物层至少位于元胞单元的多晶硅层的外围区域的上方,该金属硅化物层功能上可以作为栅电阻,该栅电阻将芯片元胞单元的结构包围起来,实现了栅电阻的元胞级并联,提高了元胞级的开关控制能力,改善了芯片的均流特性。
申请公布号 CN103325838A 申请公布日期 2013.09.25
申请号 CN201310259232.4 申请日期 2013.06.26
申请人 株洲南车时代电气股份有限公司 发明人 刘国友;覃荣震;黄建伟;罗海辉
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 王宝筠
主权项 一种功率半导体芯片,包括N个并联的元胞单元,其特征在于,至少一个所述元胞单元包括,设置有半导体结构的衬底,所述衬底表面包括第一子表面、第二子表面和第三子表面,所述第三子表面为所述衬底表面中心所在的区域,第二子表面包围所述第三子表面,第一子表面包围所述衬底表面第二子表面;依次形成于所述第一子表面之上的栅氧化层、多晶硅层,所述多晶硅层由第一区域和第二区域组成,所述第一区域至少包括第一子区域,所述第一子区域为位于所述多晶硅层靠近边缘的外围闭合区域;所述元胞单元还包括形成于所述第一区域之上的金属硅化物层、覆盖所述第二区域和所述衬底第二子表面之上的绝缘层、覆盖所述绝缘层和所述金属硅化物层的钝化层、以及覆盖所述钝化层和所述衬底第三子表面的金属化层。
地址 412001 湖南省株洲市石峰区时代路169号