广视角液晶显示器阵列基板制作方法

摘要

本发明提供了一种广视角液晶显示器阵列基板制作方法，所述方法包括：提供一基板，在所述基板上依次形成透明导电薄膜和栅极金属层；在所述基板上涂布光敏材料，使用半色调掩膜版进行曝光并显影，形成不同厚度的光敏材料图形；在所述形成不同厚度的光敏材料图形的基板上，进行刻蚀形成第一透明电极；对所述形成透明电极的基板进行脱膜，去除光敏材料，形成栅极；依次在所述形成第一透明电极和栅极的基板上制作有源层、源漏极、保护层和第二透明电极。

主权项

一种广视角液晶显示器阵列基板制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基板，在所述基板上依次形成透明导电薄膜和栅极金属层；在所述基板上涂布光敏材料，使用半色调掩膜版进行曝光并显影，形成不同厚度的光敏材料图形；在所述形成不同厚度的光敏材料图形的基板上，进行刻蚀形成第一透明电极；对所述形成透明电极的基板进行脱膜，去除光敏材料，形成栅极；依次在所述形成第一透明电极和栅极的基板上制作有源层、源漏极、保护层和第二透明电极；其中，所述半色调掩膜版上对应基板的栅极制作区域为不透光区域，第一透明电极制作区域为部分透光区域，其他区域为透光区域，则，所述形成的不同厚度的光敏材料图形具体是：基板栅极制作区域的光敏材料全部保留，第一透明电极制作区域光敏材料部分保留，其他区域光敏材料被去除；并且，所述在所述形成不同厚度的光敏材料图形的基板上，进行刻蚀形成第一透明电极包括：通过刻蚀工艺去除基板其他区域上的栅极金属层和透明导电薄膜，以及第一透明电极制作区域上的光敏材料；通过刻蚀工艺去除第一透明电极制作区域上的栅极金属层，形成第一透明电极。