一种用于制备双层ITO导电膜的卷绕镀膜机

摘要

本实用新型涉及一种磁控溅射卷绕镀膜设备，尤其涉及一种用于制备双层ITO导电膜的卷绕镀膜机。它包括放卷室，工艺室，收卷室，放卷室内含有除水器，捕水器及导向辊轴；工艺室内含有镀膜鼓、预处理装置、第一溅射室、捕水汽装置、第二溅射室、第一捕水汽装置、第三溅射室、第二捕水汽装置、第四溅射室、第三捕水汽装置、第五溅射室、第四捕水汽装置、第六溅射室、第五捕水汽装置、除水汽装置及导向辊轴。1、本实用新型工艺难度小，生产效率及产能高。2、本实用新型结构简单，容易操作。

主权项

一种用于制备双层ITO导电膜的卷绕镀膜机，它包括放卷室（1），工艺室（2）， 收卷室（20），其特征在于：放卷室（1）内含有除水器（3），捕水器（7）及导向辊轴；工艺室（2）内含有镀膜鼓（4）、预处理装置（5）、第一溅射室（6）、捕水汽装置（8）、第二溅射室（9）、第一捕水汽装置（10）、第三溅射室（11）、第二捕水汽装置（12）、第四溅射室（13）、第三捕水汽装置（14）、第五溅射室（15）、第四捕水汽装置（16）、第六溅射室（17）、第五捕水汽装置（18）、除水汽装置（19）及导向辊轴。