发明名称 |
用于ROM单元的器件 |
摘要 |
本发明公开了一种ROM单元,所述ROM单元包括:形成在存储单元中的晶体管的第一有源区上的第一第一层接触件,形成在第一第一层接触件上的第一第二层接触件,其中第一第二层接触件以第一方向相对于第一第一层接触件偏移。该ROM单元还包括形成在所述存储单元的晶体管的第二有源区上的第二第一层接触件,其中第二第一层接触件与第一第一层接触对准,以及第二第二层接触件形成在第二第一层接触件上,其中第二第二层接触件以第二方向相对于第二第一层接触件偏移,以及其中所述第一方向与所述第二方向相反。本发明还公开了用于ROM单元的器件。 |
申请公布号 |
CN103325418A |
申请公布日期 |
2013.09.25 |
申请号 |
CN201310000990.4 |
申请日期 |
2013.01.04 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
廖忠志 |
分类号 |
G11C17/12(2006.01)I;H01L27/112(2006.01)I |
主分类号 |
G11C17/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 |
代理人 |
章社杲;孙征 |
主权项 |
一种器件,包括:第一第一层接触件,形成在存储单元中的晶体管的第一有源区上;第一第二层接触件,形成在所述第一第一层接触件上,其中所述第一第二层接触以第一方向相对于所述第一第一层接触件偏移;第二第一层接触件,形成在所述存储单元中的所述晶体管的第二有源区上,其中所述第二第一层接触件与所述第一第一层接触件对准,以及第二第二层接触件,形成在所述第二第一层接触件上,其中所述第二第二层接触件以第二方向相对于所述第二第一层接触件偏移,以及其中所述第一方向与所述第二方向相反。 |
地址 |
中国台湾新竹 |