微光刻的投射物镜、具有所述投射物镜的微光刻投射曝光装置、部件的微光刻制造方法以及使用该方法制造的部件

摘要

当前设计的微光刻的投射物镜具有在曝光场上变化的杂散光成分。通过引入额外的杂散光，该场上杂散光成分的变化能够被减少和/或与另一投射物镜的变化相配。通过预先适配或改变近场表面的表面粗糙度和/或通过安装在光瞳平面中具有指定目标光散射特性的光学元件，来有利地完成这点。在这点中，本发明利用了观察结论：相比杂散光成分本身，该场上的杂散光成分的变化和不同投射物镜的杂散光成分的各个不同的变化对半导体部件的制造产生更大的问题。特别在其中使用强散射的多晶材料的浸没光刻的投射物镜中，本发明提供了一种补偿这些投射物镜在场上的杂散光成分的增加的变化，并且从而获得在整个场上恒定的杂散光成分。进一步，特别在比传统投射物镜呈现更高杂散光成分的EUV光刻的投射物镜的情形中，可以关于曝光场上的杂散光成分和/或杂散光成分的变化来使不同的投射物镜彼此相适配。

主权项

将掩模平面的像投射到场平面，并具有由至少一个光学元件产生的附加的杂散光成分的微光刻领域的投射物镜，在所述场平面中有曝光场，其特征在于，附加的杂散光成分将所述投射物镜的曝光场上的杂散光成分与另一投射物镜的曝光场上的杂散光成分适配和/或者将所述投射物镜的曝光场上的杂散光成分的变化与另一投射物镜的曝光场上的杂散光成分的变化适配；其中所述附加的杂散光成分在曝光场上具有非恒定的分布，其中具有非恒定分布的附加的杂散光成分遵守给定的预定的曝光场上的分布，并且其中所述给定的预定的分布根据另一投射物镜的测量数据确定；其中所述场平面中的曝光场具有中心区域和边缘区域，并且其中通过位于投射透镜的光瞳平面中的至少一个光学元件，在所述曝光场中的中心区域中，调整具有非恒定分布的所述附加的杂散光成分。