沉浸式光刻装置及使用光刻工艺制造微器件的方法

摘要

一种沉浸式光刻装置及使用光刻工艺制造微器件的方法，涉及控制光学组件(16)与器件(30)之间间隙(246)内的环境的环境系统(26)包括：流体屏障(254)，沉浸流体系统(252)，和传送区(256)。流体屏障(254)位于器件(30)附近，并且将传送区(256)保持在间隙(246)附近。沉浸流体系统(252)输送填充间隙(246)的沉浸流体(248)。传送区(256)将至少一部分邻近流体屏障(254)和器件(30)的沉浸流体(248)输送离开器件(30)。沉浸流体系统(252)能包括流体清除系统(282)，其与传送区(256)流体相连。传送区(256)能够用多孔金属制成。

主权项

一种沉浸式光刻装置包括：用于保持晶片的台；刻线板台，用于保持限定图像的刻线板；投影系统，其包括照射源和光学元件，所述投影系统用于将由刻线板限定的图像投影到所述晶片上的曝光区中；位于所述光学元件和所述晶片之间的间隙被沉浸流体填充；和多孔材料，其邻近所述间隙放置，包括多个用于收集离开所述间隙的沉浸流体的通道，并且所述多孔材料在容纳框的底侧上或底侧附近固定于所述容纳框；以及包括支持组件的框支架，通过该支持组件所述容纳框被可移动地支持。